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D-0001
低分子環状シロキサン分析受託サービス
GC-MS
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身の回りに使用されているシリコーン製品から発生する低分子環状シロキサンは、電子部品の接点不良の原因となるため、部品から発生する量や大気中の濃度を把握する必要があります。
Fig.1 電気接点障害のイメージ図
【測定対象シロキサン】 (測定対象はご相談下さい)
環状シロキサン3量体10量体 (D3D10) 環状シロキサン3量体20量体 (D3D20)
◆珪素と酸素を骨格とする化合物で、Si-O-Si結合 (シロキサン結合) を持つ化合物の総称 ◆低分子シロキサンとは、重合した分子数が20個までのもので、鎖状と環状のものがある ◆沸点は高いが、ガス化しやすい
Fig.2 D4:環状シロキサン4量 (オクタメチルシクロテトラシロキサン)
使用する製品・部品に含まれるシロキサンの含有量を定量します。
※合わせて接点不良個所の観察・解析サービスも行っております。
Fig.3 溶媒抽出
製品を使用している環境、作業現場、装置内部、制御盤内部など、環境空気中のシロキサン濃度を測定します。
Fig.4 捕集管による捕集
下水処理場の消化槽 (嫌気発酵槽) の消化ガスなど、ガス中のシロキサンを定量します。
Fig.5 サンプリングバッグによる捕集
製品・材料から発生するシロキサンの量を、ご指定の温度で測定します。 温度による発生量の変化を把握できます。
Fig.6 加熱脱着法
Fig.7 ヘッドスペース法
※チャンバー法による前処理も対応致しますので、ご相談下さい
Fig.8 シリコーンゴム加熱時発生ガスのGC-MS測定例 ガスクロマトグラム(TIC)
>>依頼書ダウンロードはこちら
お客様自身でも採取可能です。 ご要望に応じた採取キットを弊社よりお送りいたします。
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身の回りに使用されているシリコーン製品から発生する低分子環状シロキサンは、電子部品の接点不良の原因となるため、部品から発生する量や大気中の濃度を把握する必要があります。
Fig.1 電気接点障害のイメージ図
【測定対象シロキサン】 (測定対象はご相談下さい)
環状シロキサン3量体10量体 (D3D10)
環状シロキサン3量体20量体 (D3D20)
■低分子シロキサンとは
◆珪素と酸素を骨格とする化合物で、Si-O-Si結合 (シロキサン結合) を持つ化合物の総称
◆低分子シロキサンとは、重合した分子数が20個までのもので、鎖状と環状のものがある
◆沸点は高いが、ガス化しやすい
Fig.2 D4:環状シロキサン4量 (オクタメチルシクロテトラシロキサン)
■分析メニュー
1. 製品・部品中に含まれるシロキサンの定量
使用する製品・部品に含まれるシロキサンの含有量を定量します。
※合わせて接点不良個所の観察・解析サービスも行っております。
Fig.3 溶媒抽出
2. 環境空気中に含まれるシロキサンの定量
製品を使用している環境、作業現場、装置内部、制御盤内部など、環境空気中のシロキサン濃度を測定します。
Fig.4 捕集管による捕集
3. 排ガス中に含まれるシロキサンの定量
下水処理場の消化槽 (嫌気発酵槽) の消化ガスなど、ガス中のシロキサンを定量します。
Fig.5 サンプリングバッグによる捕集
4. 製品・材料から発生するシロキサンの定量
製品・材料から発生するシロキサンの量を、ご指定の温度で測定します。
温度による発生量の変化を把握できます。
Fig.6 加熱脱着法
Fig.7 ヘッドスペース法
※チャンバー法による前処理も対応致しますので、ご相談下さい
Fig.8 シリコーンゴム加熱時発生ガスのGC-MS測定例 ガスクロマトグラム(TIC)
■シロキサンサンプル採取方法
お客様自身でも採取可能です。
ご要望に応じた採取キットを弊社よりお送りいたします。